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真空气氛箱式炉LFM1200C-7.2VC用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。

高温高压合成炉设备是根据SHS技术发展的新动向而研制的，采用了许多较新的科技成果，集许多功能于一身，设计使用性能优良，具有很好的应用前景和使用价值。

真空箱式炉LFM1200C 91VC系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。

高温热处理设备是一款小型混合箱式/管式炉，作为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理，作为管式炉可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理

真空气氛箱式炉 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程...

LMF系列真空气氛箱式炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝纤维材料，采用进口合金电阻丝为加热元件。是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工...

真空气氛箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料，工作温度能达到1100℃，可连续工作1000℃，...

多面加热箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料，工作温度能达到1100℃，可连续工作1000℃，...

定制箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料，工作温度能达到1100℃，可连续工作1000℃，控温...

1200箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料，工作温度能达到1100℃，可连续工作1000℃，...